纯源镀膜是一家真空镀膜设备研发商,主要从事纳米/微米级的真空镀膜设备的设计、研发、制造、销售、售后服务和镀膜生产服务。公司在纯离子镀膜(简称PIC)、化学气相沉积(CVD)、磁控溅射、多弧离子镀、离子束刻蚀清洗等真空镀膜应用领域都拥有国内外*技术。公司自主研发的纯离子镀膜设备(Pure Ion Coating,简称PIC)能够制造出性能优越的金属膜、合金膜、金属化合物膜和金刚石薄膜;另一项核心产品NDT(New Diamond Technology)能够制成性能优越稳定的金刚石薄膜。膜层系列有Ta-C、DLC、低温氮化物膜 (TiN,CrN,等)、碳化物膜 (CrC,等)和高致密金属/合金膜等。