純源鍍膜是一家真空鍍膜設備研發商,主要從事納米/微米級的真空鍍膜設備的設計、研發、制造、銷售、售後服務和鍍膜生産服務。公司在純離子鍍膜(簡稱PIC)、化學氣相沉積(CVD)、磁控濺射、多弧離子鍍、離子束刻蝕清洗等真空鍍膜應用領域都擁有國内外*技術。公司自主研發的純離子鍍膜設備(Pure Ion Coating,簡稱PIC)能夠制造出性能優越的金屬膜、合金膜、金屬化合物膜和金剛石薄膜;另一項核心産品NDT(New Diamond Technology)能夠制成性能優越穩定的金剛石薄膜。膜層系列有Ta-C、DLC、低溫氮化物膜 (TiN,CrN,等)、碳化物膜 (CrC,等)和高緻密金屬/合金膜等。